この装置は、
オートレース補助事業
により購入した機器です。

　蛍光X線膜厚測定分析装置（XRF-EDX）
　

写真：蛍光X線膜厚測定分析装置（XRF-EDX）
１．機器の概要
蛍光Ｘ線分析は、物質に照射したＸ線の一部が各元素に固有のエネルギーを持ったＸ線として放出されるため、それを分析することで試料を構成する(試料に含まれる)元素の定性、簡易定量を行う分析手法です。本装置は主にその機能を利用してめっき等各種金属薄膜の厚さを非破壊で迅速・簡便に測定する装置です。 通常の定性分析機能及び簡易定量分析機能だけでなく、高速・広範囲の元素マッピング機能も有しています。
紹介ポスター （PDF:497KB）
２．機器の仕様
○蛍光X線膜厚測定分析装置（ブルカージャパン株式会社　M4 TORNADO PLUS）
Ｘ線の照射方式 上面照射方式
最大試料重量 ７kg
試料ステージサイズ 330mm×170mm
試料ステージ可動範囲
(幅×奥行き×高さ) 		200mm×160mm×120mm
元素マッピングデータ
取得範囲 		190mm×160mm
試料観察用光学像 10倍、100倍、MAX：200mm×160mmのモザイク像(全体像)
分析面積
(スポットサイズ) 		φ20μm、φ180μm
ワーキングディスタンス
(ＷＤ；作動距離) 		９mm
エネルギー分散型Ｘ線
検出器 		液体窒素レスタイプシリコン半導体検出器
検出可能元素 元素周期表でC(炭素)～Am(アメリシウム)
３．主な用途
・各種金属めっき皮膜の厚さ(膜厚)測定及び膜厚分布の測定 ・異物・異状箇所の含有・構成元素の定性・簡易定量分析 ・高速・広範囲の多元素同時マッピング分析による元素分布測定 ・金属の腐食･変色(水酸化物､炭酸塩､硫化物､酸化物など)の評価解析
４．お問合せ先
工業技術研究所浜松工業技術支援センター 材料科　／　電話：053-428-4156